[发明专利]基板亲水化处理剂在审
| 申请号： | 201980014155.1 | 申请日： | 2019-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN111742262A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 坂西裕一 | 申请（专利权）人： | 株式会社大赛璐 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 杨薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供可提高基板表面相对于光致抗蚀剂的润湿性的基板亲水化处理剂。本发明的基板亲水化处理剂是对待通过光刻法进行图案形成的基板的表面进行亲水化的处理剂，其至少含有下述成分(A)及成分(B)。成分(A)：重均分子量为100以上且小于10000的水溶性低聚物；成分(B)：水。作为成分(A)中的水溶性低聚物，优选下述式(a‑1)表示的化合物。R |
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| 搜索关键词： | 基板亲 水化 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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