[发明专利]用于预测投影系统中的像差的测量装置和方法在审
| 申请号： | 201980015239.7 | 申请日： | 2019-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN111758076A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | M·C·沙夫斯玛;M·阿克萨;J·R·唐斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于校准投影系统加热模型以预测光刻装置中的投影系统中的像差的方法，该方法包括：使曝光辐射通过投影系统，以曝光在衬底台上设置的衬底上的一个或多个曝光场，对由曝光辐射导致的投影系统中的像差进行测量，其中测量之间的时间段小于曝光衬底上的所有曝光场所花费的时间段。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 预测 投影 系统 中的 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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