[发明专利]镧系元素化合物、含镧系元素薄膜及使用该镧系元素化合物形成含镧系元素薄膜在审

专利信息
申请号: 201980015311.6 申请日: 2019-01-22
公开(公告)号: CN111770927A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 克里斯蒂安·杜萨拉特;大野刚嗣;关友弘 申请(专利权)人: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
主分类号: C07F17/00 分类号: C07F17/00;H01L29/49;H01L29/786
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 为了提供一种用于形成含镧系元素薄膜的镧系元素化合物以及一种成膜方法,该镧系元素化合物具有高稳定性以及比使用温度更低的熔点,并且因此可以以液态使用。问题的解决方案:根据本发明的镧系元素化合物是通过以下通式(1)或以下通式(2)表示的化合物。Ln(R1xCp)2(A)y……(1)Sm(R2xCp)2(A)y……(2)(在通式(1)中,Ln是Nd、Eu、Dy、Tm、或Yb,R1独立地是Me、Et、nPr、iPr、nBt、sBu、iBu、或tAm;Cp是环戊二烯基,A是含有氧、硫、磷、或氮的直链或环状的烃,x是2至3的整数,并且y是0至2。在通式(2)中,R2独立地是nPr、iPr、nBt、sBu、iBu、或tAm。)。
搜索关键词: 元素 化合物 含镧系 薄膜 使用 形成
【主权项】:
暂无信息
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