[发明专利]复合被膜及复合被膜的形成方法有效
| 申请号： | 201980016129.2 | 申请日： | 2019-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111788328B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 藤井慎也;森口秀树 | 申请（专利权）人： | 日本ITF株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C16/27 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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