[发明专利]纳米结构薄膜材料及其制造和用途在审

专利信息
申请号: 201980016261.3 申请日: 2019-02-11
公开(公告)号: CN111788329A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 罗伯特·辛普森;董伟玲 申请(专利权)人: 新加坡科技与设计大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;B82Y15/00;B82Y30/00;C23C14/14;C23C14/34;H01L21/02;H01L31/0264;H01L31/0352;G01N21/59;B82Y40/00
代理公司: 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 代理人: 康健;王思琪
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了纳米结构薄膜和用于制造自组织纳米结构薄膜的方法。该方法包括在压力小于大气压的低压室中提供衬底,并沉积等离激元材料与硫属化物材料的构成比大于3:2的等离激元‑硫属化物材料,以在衬底上形成自组织纳米结构薄膜。当等离激元材料在等离激元硫属化物材料中的原子浓度为40%至87%时,形成具有纳米结构的纳米线森林的薄膜。当等离激元材料在等离激元‑硫属化物材料中的原子浓度为87%至95%时,形成纳米多孔薄膜。
搜索关键词: 纳米 结构 薄膜 材料 及其 制造 用途
【主权项】:
暂无信息
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