[发明专利]具有改善的信号电子检测性能的多束检测设备在审
| 申请号： | 201980017872.X | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111819654A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 任伟明;刘学东;胡学让;陈仲玮 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/28 | 分类号： | H01J37/28;H01J37/147;H01J37/29 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器，其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改善 信号 电子 检测 性能 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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