[发明专利]用于浅沟槽隔离应用的化学机械抛光组合物有效
| 申请号： | 201980019042.0 | 申请日： | 2019-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN111868189B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | S.布罗斯南 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/38 | 分类号： | C11D1/38;C11D1/66 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 詹承斌;宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光组合物，包含：(a)氧化铈研磨剂颗粒；(b)阳离子型聚合物；(c)非离子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚(乙烯)‑共‑聚(乙二醇)、辛基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇、或其组合；(d)饱和一元酸；及(e)水性载剂。本发明还涉及抛光基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沟槽 隔离 应用 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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