[发明专利]脉冲系统验证在审
| 申请号： | 201980023143.5 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN111936873A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | S·甘塔萨拉;H-H·都 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01R31/28 | 分类号： | G01R31/28;G01R19/00;H04B17/10;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在半导体工艺中验证RF发生器的操作及产生的脉冲波形的系统包括工艺腔室、轮廓传感器、光学传感器和控制器。由系统的控制器所实施的用于验证半导体工艺中的RF发生器的操作和产生的脉冲波形的工艺包括：产生被测试的RF发生器的脉冲形状的脉冲轮廓；选择已知用于正确操作的RF发生器的存储的代表性轮廓以与针对相同脉冲模式的RF发生器产生的轮廓进行比较；限定量化的度量/控制限制以识别RF发生器的所产生的轮廓与存储的轮廓之间的相同脉冲模式的脉冲之间的相似性和/或差异；比较所产生的轮廓和所选的存储的轮廓；以及基于比较确定被测试的RF发生器是否正确操作运行。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 系统 验证 | ||
【主权项】：
暂无信息
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