[发明专利]位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置在审
| 申请号： | 201980024003.X | 申请日： | 2019-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN111971622A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | C·J·C·斯库尔曼斯;J·M·T·A·阿德里安斯;T·沃斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于确定物体的位置的位置测量系统，该位置测量系统包括第一干涉仪和第二干涉仪，该第一干涉仪和第二干涉仪被布置为当物体处于第一测量区域时通过将束发射到物体的目标表面上来确定物体在第一方向上的距离。位置测量系统还包括第三干涉仪和第四干涉仪，该第三干涉仪和第四干涉仪被布置为当物体处于第二测量区域时通过将束发射到物体的目标表面上来确定物体在第一方向上的距离。来自第一干涉仪和第二干涉仪所发射的束的撞击在目标表面上的束斑在第二方向上的相对位置的布置与来自第三干涉仪和第四干涉仪所发射的束撞击在目标表面上的束斑在第二方向上的相对位置的布置不同。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 测量 系统 干涉仪 光刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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