[发明专利]光束的空间调制在审
| 申请号： | 201980024259.0 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111955058A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | K·W·张;M·A·珀维斯;C·A·斯廷森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种系统包括空间调制设备，其被配置为与光束相互作用以创建经修改光束，该经修改光束包括沿垂直于该经修改光束的传播方向的方向具有非均一强度的光的空间图案，该光的空间图案包括一个或多个光分量；和目标供应系统，其被配置为向目标区域提供目标，该目标包括目标材料，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光。该目标区域与束路径重叠，使得该经修改束中的一个或多个光分量中的至少一些光分量与该目标的一部分进行相互作用。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 空间 调制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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