[发明专利]物理气相沉积的腔室内电磁铁在审
| 申请号： | 201980024765.X | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN112020759A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 布赖恩·T·韦斯特;迈克尔·S·考克斯;米罗斯拉夫·盖洛;丁克什·索曼纳 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 物理气相沉积(PVD)腔室沉积具有高厚度均匀性的膜。PVD腔室包括电磁线圈，当用直流电力通电时，所述线圈可改变PVD腔室的处理区域的边缘部分中的等离子体。线圈设置在PVD腔室的真空容纳部分内并且位于PVD腔室的处理区域外部。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 室内 电磁铁 | ||
【主权项】：
暂无信息
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