[发明专利]减少或消除不带助焊剂施加的焊料中的空隙的镀覆方法在审
申请号: | 201980025102.X | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN112004963A | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | D·P·里默;P·F·拉德维希 | 申请(专利权)人: | 哈钦森技术股份有限公司 |
主分类号: | C25D3/00 | 分类号: | C25D3/00;C25D3/02;C25D3/48;C25D5/00;C25D5/02;C25D17/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王永建 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了一种用金镀覆铜基体的方法,该方法减少或消除了在金/铜基体的界面处的微空隙的出现。适当地,执行基体带电进入镀浴中,同时向浴施加外部电流,使得在未施加外部电流的情况下,基体的任何部分都不会暴露于浴中超过一秒钟。将用于金预镀的施加电流增加到金减少的质量转移极限实现了消除微空隙的全面的改进措施。 | ||
搜索关键词: | 减少 消除 不带助 焊剂 施加 焊料 中的 空隙 镀覆 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈钦森技术股份有限公司,未经哈钦森技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980025102.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。