[发明专利]基板处理期间剂量图及特征尺寸图的制作及使用有效
申请号: | 201980028150.4 | 申请日: | 2019-03-27 |
公开(公告)号: | CN112020675B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 克里斯多弗·丹尼斯·本彻;约瑟夫·R·约翰逊 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/76 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文讨论的系统与方法关于在光刻与微光刻期间图案化基板,以使用剂量形成一组或多组临界尺寸的特征。基于在制造期间捕获的图像产生剂量图,以说明在用于图案化基板的多个操作中的处理变化。剂量图与成像程序一起使用,以调节施加至基板的各个区域的电压,以便产生具有一组或多组临界尺寸的特征,并补偿原本可能导致不正确临界尺寸的上游或下游操作。 | ||
搜索关键词: | 处理 期间 剂量 特征 尺寸 制作 使用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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