[发明专利]用于处理半导体装置结构的工具及系统及相关方法在审
申请号: | 201980031546.4 | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN112106183A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | M·E·科乌通斯基 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明揭示一种用于制造半导体装置结构的系统,其包含工具,所述工具包括室及所述室内的平台,所述平台经配置以在其上接收半导体装置结构。所述工具进一步包含与所述平台可操作连通且经配置以控制所述平台的温度的加热及冷却系统。所述加热及冷却系统包括:冷却系统,其包含用于容纳冷传热流体的冷槽,所述冷槽经配置以与所述平台、传热流体供应管线及传热流体回流管线流体连通;加热系统,其包含用于容纳具有比所述冷传热流体高的温度的热传热流体的热槽,所述热槽经配置以与所述平台、所述传热流体供应管线及所述传热流体回流管线流体连通;及至少一个暂时存储槽,其经配置以在将来自所述平台的热负载从所述冷却系统或所述加热系统中的一者切换到所述冷却系统或所述加热系统中的另一者之后从至少所述传热流体回流管线接收至少一些所述冷传热流体或所述热传热流体。本发明还揭示相关方法及工具。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 半导体 装置 结构 工具 系统 相关 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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