[发明专利]防护膜组件用支撑框及其制造方法、防护膜组件及曝光原版和曝光装置有效
申请号: | 201980031898.X | 申请日: | 2019-06-12 |
公开(公告)号: | CN112154376B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 石川彰;大久保敦;小野阳介;高村一夫 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;H01L21/673 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金成哲;宋春华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置,该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器,并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框,具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器,所述过滤器具有平板状的框形状,被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持,所述第一支撑框部具有:第一主体部,具有平板状的框形状;以及第一卡合部,从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出,所述第二支撑框部具有:第二主体部,具有平板状的框形状;以及第二卡合部,配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部,并与所述第一卡合部卡合。 | ||
搜索关键词: | 防护 组件 支撑 及其 制造 方法 曝光 原版 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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