[发明专利]用于在等离子体增强化学气相沉积腔室中抑制寄生等离子体的设备在审
| 申请号： | 201980033026.7 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN112136202A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | S·S·阿迪帕利;S·卡坦布里;M·G·库尔卡尼;H·K·帕纳瓦拉皮尔库马兰库提;V·K·普拉巴卡尔;爱德华四世·P·哈蒙德;J·C·罗查 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/505;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开的实施例总体上涉及用于PECVD腔室的金属屏蔽件。金属屏蔽件包括基板支撑部分和轴部分。轴部分包括具有壁厚度的管状壁。管状壁具有嵌入其中的冷却剂通道的供应通道和冷却剂通道的返回通道。供应通道和返回通道中的各者是管状壁中的螺旋。螺旋供应通道和螺旋返回通道具有相同的旋转方向且彼此平行。供应通道和返回通道在管状壁中交错。通过在金属屏蔽件中交错的供应通道和返回通道，减小了金属屏蔽件中的热梯度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 增强 化学 沉积 腔室中 抑制 寄生 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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