[发明专利]制作用于光学元件的基板的方法以及反射光学元件在审
| 申请号： | 201980033038.X | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN112189064A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | A.施梅尔;H.西克曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B11/00 | 分类号： | C30B11/00;C30B11/02;C30B11/14;C30B29/06;C30B29/08;G02C7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于用以制作用于光学元件(11)的基板(10)的方法，其包含：引入起始材料(较佳为金属或半金属)至容器中并熔化该起始材料、通过从配置于容器的基座的区域中的多个单晶晶种盘开始定向地固化熔化的起始材料来制作具有准单晶体积区域(8)的材料体、以及通过处理材料体来制作基板(10)，以形成光学表面(12)。本发明还关于反射光学元件(11)，特别是用以反射EUV辐射(14)，其包含：具有光学表面(12)的基板(10)，其中反射涂层(13)施加于光学表面(12)上。基板(10)一般是根据前述方法制作且具有准单晶体积区域(8)。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 用于 光学 元件 方法 以及 反射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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