[发明专利]用于工件的曝光后烘烤加工的方法和装置在审
| 申请号： | 201980034006.1 | 申请日： | 2019-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN112204470A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 杨晓晅 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/40;G03F7/20;H01L21/67;H01L21/027;H01L21/324 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 王艳波;林军 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了曝光后烘烤方法。在一个示例中，该方法包括将具有光刻胶层的工件放置在设置于加工室中的工件支撑体上。该方法包括通过光掩模将光刻胶曝光于具有一定波长的光子。该方法包括对具有光刻胶加热层的工件进行曝光后烘烤加热过程。曝光后烘烤加热过程可以包括利用辐射热源和设置在工件支撑体中的第二热源两者来加热工件，直到工件的温度达到曝光后烘烤设定点温度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 工件 曝光 烘烤 加工 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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