[发明专利]真空紫外光偏振元件、真空紫外光偏振装置、真空紫外光偏振方法及取向方法有效

专利信息
申请号: 201980034821.8 申请日: 2019-05-31
公开(公告)号: CN112189157B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 那胁洋平;鹤冈和之 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1337
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王灵菇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提出能够用于光取向等处理的真空紫外光偏振元件的更适当的构成,并且提供利用真空紫外光进行光取向的适当的技术构成。上述课题通过下述手段得以解决:设置在透明基板(1)上的栅(2)由平行延伸的多个线状部(3)构成。各线状部(3)的材料是氧化铪之类的第3族或第4族元素的氧化物,且是在由式PE=T2×log10(ER)(其中,T为栅的透射率,ER为栅的消光比)得到的PE于真空紫外区域中达到最高的光学常数的组合中PE达到0.2以上的材料。各线状部(3)之间为空间而无填充物,配置有真空紫外光偏振元件(6)的空间用不活泼性气体替换。进行光取向时,工件(10)配置在距真空紫外光偏振元件(6)1~20mm以下的位置,真空紫外光的照射量为40~4000mJ/mm2以下。
搜索关键词: 真空 紫外光 偏振 元件 装置 方法 取向
【主权项】:
暂无信息
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