[发明专利]化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法在审
申请号: | 201980035577.7 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN112218844A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 堀内淳矢;冈田悠;牧野岛高史;越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C39/15 | 分类号: | C07C39/15;C07C39/367;C07C49/83;C08G8/04;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的目的在于,提供:对光刻用膜形成材料等有用的新型化合物等。前述目的可以通过下述式(1)所示的化合物而达成。 |
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搜索关键词: | 化合物 树脂 组合 图案 形成 方法 电路 纯化 | ||
【主权项】:
暂无信息
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