[发明专利]成像装置在审
申请号: | 201980036840.4 | 申请日: | 2019-05-24 |
公开(公告)号: | CN112204446A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 新屋公启;山本笃志 | 申请(专利权)人: | 索尼半导体解决方案公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B1/113;G02B1/118;G02B13/18;G03B17/02;H01L27/146;G02B7/02;H04N5/225;H04N5/357;H04N5/369 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 梁兴龙;曹正建 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及一种成像装置,其能够实现装置构成的小型化和高度减小,同时减少眩光或重影的发生,并且能够防止AR涂层中的裂纹的发生。根据本公开,在固态成像元件上形成的透镜的至少有效区域形成AR涂层。除了有效区域以外,还可以在透镜的外周部和玻璃基板的上表面上形成AR涂层;在这种情况下,透镜的外周部的至少一部分和玻璃基板的上表面的至少一部分未被AR涂层覆盖。本公开适用于成像装置。 | ||
搜索关键词: | 成像 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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