[发明专利]成像装置在审

专利信息
申请号: 201980036840.4 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN112204446A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 新屋公启;山本笃志 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B1/113;G02B1/118;G02B13/18;G03B17/02;H01L27/146;G02B7/02;H04N5/225;H04N5/357;H04N5/369
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 梁兴龙;曹正建
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及一种成像装置,其能够实现装置构成的小型化和高度减小,同时减少眩光或重影的发生,并且能够防止AR涂层中的裂纹的发生。根据本公开,在固态成像元件上形成的透镜的至少有效区域形成AR涂层。除了有效区域以外,还可以在透镜的外周部和玻璃基板的上表面上形成AR涂层;在这种情况下,透镜的外周部的至少一部分和玻璃基板的上表面的至少一部分未被AR涂层覆盖。本公开适用于成像装置。
搜索关键词: 成像 装置
【主权项】:
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