[发明专利]用于平板处理设备的温控气体扩散器

摘要

本文中描述的实施方式提供改进被沉积的膜或待蚀刻的膜的均匀性的气体分布组件。所述气体分布组件的一个实施方式包括扩散器，所述扩散器具有顶部扩散板和设置在所述顶部扩散板中的多个第一气体通道区段。各第一气体通道与设置在所述顶部扩散板中的至少一个流体通道邻近。各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的供应通道连接，所述供应通道具有被配置成可与热交换器的流体供应导管耦接的供应入口。各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的返回通道连接。具有返回出口的返回通道被配置成可与所述热交换器的流体返回导管耦接。底部扩散板与所述顶部扩散板耦接。