[发明专利]用于涂覆基底的真空沉积设备和方法有效
申请号: | 201980039218.9 | 申请日: | 2019-04-23 |
公开(公告)号: | CN112272714B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 埃里奇·西尔伯贝格;蒂亚戈·拉贝洛努内斯坎波斯;奈格尔·吉拉尼 | 申请(专利权)人: | 安赛乐米塔尔公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/56 |
代理公司: | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人: | 青炜 |
地址: | 卢森堡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法;在基底的两侧上涂覆有至少一种金属的经涂覆的基底;以及真空沉积设备。 | ||
搜索关键词: | 用于 基底 真空 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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