[发明专利]抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201980039692.1 | 申请日： | 2019-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN112272798A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 田川精一 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 褚瑶杨;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 抗蚀剂图案形成方法包含：在基板(S)上形成含有基体树脂(R)、增感剂前驱体(Pp)、产酸剂(PAG)、产碱剂(PBG)和碱(Ba)的抗蚀剂层(10)的步骤；由增感剂前驱体(Pp)生成增感剂(Ps)的步骤；由产酸剂(PAG)产生酸(Ac)并由产碱剂(PBG)产生碱(Ba)的步骤；在整片曝光之后对抗蚀剂层(10)进行热处理的步骤；以及，在热处理后对抗蚀剂层(10)进行显影的步骤。图案曝光(L1)中表示酸的值(A1)相对于表示碱的值(B1)之比(C1＝A1/B1)与整片曝光(L2)中表示酸的值(A2)相对于表示碱的值(B2)之比(C2＝A2/B2)满足关系0.9×C1＜C2＜10×C1。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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