[发明专利]用于光刻测量的传感器装置在审
| 申请号： | 201980040835.0 | 申请日： | 2019-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN112292641A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | A·波洛 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01N29/06 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 罗利娜 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种传感器装置，包括：声学组件，被布置为向衬底发送声学信号，并且在声学信号已与衬底相互作用之后接收声学信号的至少一部分；换能器，被布置为将声学信号的至少一部分转换为电子信号；以及处理器，被配置为接收电子信号并且基于电子信号确定衬底的至少一部分的形貌和衬底的目标的位置。传感器装置可以形成光刻装置或计量装置的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 测量 传感器 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980040835.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
