[发明专利]凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置有效
| 申请号： | 201980042410.3 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN112313548B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 青野宇纪;江畠佳定;八重樫健太;松井繁 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G01J3/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴秋明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供能通过球面像差的抑制来提升衍射效率的凹面衍射光栅。凹面衍射光栅(2)对光进行分光、聚光，在凹面状的基板(24)上具有锯齿形状的光栅槽(21)，锯齿形状的光栅槽(21)的间隔不等。另外，通过用光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面基板上形成锯齿形状，使形成锯齿形状为不等间隔的光栅槽(21)的平面衍射光栅在凸面固定基板上变形，来将安装的凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面，由此形成对光进行分光、聚光的凹面衍射光栅(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 凹面 衍射 光栅 及其 制造 方法 光学 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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