[发明专利]反应处理装置在审
| 申请号： | 201980044608.5 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN112400106A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 小木秀也;福泽隆 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/05;G01N37/00;C12M1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 韩香花;崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
反应处理装置包括：反应处理容器(10)；具备使第1激发光照射样本并对从样本产生的第1荧光进行聚光的第1物镜(OB1)的第1光学头(51)；具备使第2激发光照射样本并对从样本产生的第2荧光进行聚光的第2物镜(OB2)的第2光学头(55)；以及保持第1光学头(51)及第2光学头(55)的保持构件(61)。第1荧光的波长范围和第2激发光的波长范围的至少一部分重叠。第1物镜OB1的光轴和第2物镜OB2的光轴之间的距离P满足2·P |
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| 搜索关键词： | 反应 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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