[发明专利]使用增材制造工艺所形成的抛光垫及其相关方法有效

专利信息
申请号: 201980044800.4 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN112384330B 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 阿什温·乔卡林格;杰森·G·冯;斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘;拉杰夫·巴贾;丹尼尔·雷德菲尔德 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: B24D3/28 分类号: B24D3/28;B24D3/34
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法,其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相,所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成,所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成,该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同,并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
搜索关键词: 使用 制造 工艺 形成 抛光 及其 相关 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980044800.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top