[发明专利]双干涉测量样本测厚仪有效
| 申请号： | 201980044998.6 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN112384750B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | A·萨夫兰 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种厚度测量系统，其可包含：照明源；光束分光器，其将来自所述照明源的照明分裂为两个光束；平移台，其配置成沿着测量方向平移参考样本；第一干涉仪，其在测试样本的第一表面与所述参考样本的第一表面之间产生第一干涉图；和第二干涉仪，其在所述测试样本的第二表面与所述参考样本的第二表面之间产生第二干涉图。厚度测量系统可进一步包含在所述平移台扫描所述参考样本时从所述第一干涉仪和所述第二干涉仪接收干涉信号的控制器，且基于所述参考样本的厚度和所述平移台在所述干涉信号的包络线的峰值之间行进的距离来确定所述测试样本的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 测量 样本 测厚仪 | ||
【主权项】：
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