[发明专利]金属基底基板在审
申请号: | 201980047015.4 | 申请日: | 2019-07-17 |
公开(公告)号: | CN112425271A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 石川史朗;野中荘平 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H05K1/05 | 分类号: | H05K1/05;B32B15/08;H01B5/14;H01L23/12;H01L23/14 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 辛雪花;周艳玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种金属基底基板(2),通过依次层叠金属基板(10)、绝缘层(20)及电路层(40)而成,其中,所述绝缘层(20)包含树脂,所述电路层(40)的膜厚在10μm以上且1000μm以下的范围内,并且单位以μm表示的平均晶体粒径和单位以质量%表示的纯度满足下述式(1),平均晶体粒径/(100‑纯度)>5(1)。 | ||
搜索关键词: | 金属 基底 | ||
【主权项】:
暂无信息
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