[发明专利]测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法在审

专利信息
申请号: 201980047448.X 申请日: 2019-07-26
公开(公告)号: CN112771367A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 渡边义浩;石川正俊;加地宏乃介 申请(专利权)人: 国立大学法人东京大学
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 张天一
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种以少量采样数且更加高速和高精确度地测量所期望的对象物的反射特性的测量装置、测量系统、测量程序以及测量方法。根据本发明的一种实施方式,提供一种反射特性的测量装置,其特征在于具备控制部,所述控制部构成为基于对象信息和指令信息来测量对象物的反射特性,所述对象信息是包含与入射光的光源位置、反射光的光检测位置和所述对象物中的测量部位的坐标位置关系以及所述入射光和所述反射光有关数值的信息,所述入射光是被照射至所述测量部位的光,所述反射光是由所述入射光被照射至所述测量部位然后从所述测量部位反射的光,所述指令信息是与所述反射特性的已知测量结果有关的信息,所述对象信息所包含的所述坐标位置关系的组合数为1~15。
搜索关键词: 测量 装置 系统 程序 以及 测量方法
【主权项】:
暂无信息
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