[发明专利]在基材提高光化学反应的效率在审

专利信息
申请号: 201980048104.0 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN112533695A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 格伦·麦考尔;达伦·克兰德尔;李博览;保罗·戴丁 申请(专利权)人: 生捷科技控股公司
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12;B01J19/00;C07H1/00
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文公开了一种基材及其溶剂膜,该基材包括用共价连接至该基材的光不稳定基团保护的官能团,该溶剂膜覆盖该基材,其中膜的厚度小于约100μm。本文还公开了制备此类基材的方法。还公开了合成聚合物的方法、合成聚合物阵列的方法以及去除光不稳定保护基团的方法。这些方法均采用溶剂薄膜覆盖基材,其中膜的厚度小于100μm。
搜索关键词: 基材 提高 光化学 反应 效率
【主权项】:
暂无信息
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