[发明专利]光学系统及其制造过程有效
| 申请号： | 201980048205.8 | 申请日： | 2019-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN112437891B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 威尔弗里德·施瓦兹;昆廷·沙布尔;阿加特·普什卡;本杰明·布蒂农 | 申请（专利权）人： | 爱色乐居 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B27/30;G02B3/00;G02B5/00;G02B5/20;G06V40/13;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 谭营营;胡彬 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本描述涉及一种制造光学系统(5)的过程，该光学系统包括层(24)，该层包含通孔或盲孔(26)并被微米级光学元件矩阵阵列(14)覆盖。该光学系统包括旨在接收第一发射的表面(22)。此过程包括通过微米大小的光学元件矩阵阵列(14)使具有与该层相同的材料或不同的材料的膜(24)暴露于第二发射，所述材料对第二发射光敏感或能够使用第二发射加工，此方法还包括去除膜的暴露于或未暴露于第二发射的部分以界定全部或部分地穿过所述层的孔(26)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 及其 制造 过程 | ||
【主权项】：
暂无信息
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