[发明专利]聚合条件设定方法、光学材料的制造方法有效
| 申请号： | 201980048612.9 | 申请日： | 2019-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN112469768B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 古屋政幸;西村雄 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G75/08 | 分类号： | C08G75/08;G02B1/04;C08G75/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;焦成美 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的聚合条件设定方法包括下述工序：物性取得工序S10，取得将含有包含环硫化物化合物的聚合反应性化合物和聚合催化剂的组合物加温、并于规定的温度进行保温的情况下的、来自该聚合反应性化合物的加温前的官能团的物性值a及来自该聚合反应性化合物的保温规定时间后的残留官能团的物性值b；残留官能团率算出工序S20，由物性值a及物性值b算出残留官能团率；反应速度系数算出工序S30，由前述残留官能团率，基于反应速度式，算出反应速度系数；和聚合温度算出工序S40，以满足下述条件的方式，使用前述反应速度系数，基于反应速度式，在聚合时间内，每隔规定时间，逆运算各聚合温度。(条件)聚合率为0％以上且20％以下的范围内，聚合速度大于0％/hr且为3.0％/hr以下，标准偏差为0.8％/hr以下。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合 条件 设定 方法 光学材料 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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