[发明专利]偏光膜和偏光膜的制造方法有效
| 申请号： | 201980049382.8 | 申请日： | 2019-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN112513694B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 高永幸佑;后藤周作;岛津亮 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/06;H10K59/10;H05B33/02;B29K29/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供：能抑制条纹不均的发生的偏光膜。本发明的偏光膜的厚度为8μm以下，沿与吸收轴正交的方向从一个端部至另一个端部为止每50mm的区域中的最大厚度与最小厚度之差的平均值为70nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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