[发明专利]用于确定在衬底上的一个或更多个结构的特性的量测设备和方法在审
| 申请号： | 201980051246.2 | 申请日： | 2019-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN112513742A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·廷尼曼斯;帕特里克·华纳;V·T·滕纳;M·范德斯卡 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种用于获得对由一对结构散射辐射进行描述的按计算方式确定的干涉电场的方法，所述一对结构包括位于衬底上的第一结构和第二结构，所述方法包括：确定与由所述第一结构散射的第一辐射相关的第一电场；确定与由所述第二结构散射的第二辐射相关的第二电场；和按计算方式确定所述第一电场和所述第二电场的干涉，以获得按计算方式确定的干涉电场。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 衬底 一个 更多 结构 特性 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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