[发明专利]化合物、包含其的组合物、以及抗蚀图案的形成方法和绝缘膜的形成方法在审
申请号: | 201980055548.7 | 申请日: | 2019-08-21 |
公开(公告)号: | CN112639020A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 佐藤隆;越后雅敏;牧野岛高史 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C08L61/04 | 分类号: | C08L61/04;C07C39/367;C07C69/712;C07C69/96;C08G8/00;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
一种组合物,其包含多酚化合物(B),前述多酚化合物(B)为选自由下述式(1)所示化合物及具有下述式(2)所示结构的树脂组成的组中的1种以上。 |
||
搜索关键词: | 化合物 包含 组合 以及 图案 形成 方法 绝缘 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社,未经三菱瓦斯化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980055548.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新细菌
- 下一篇:用于产生和处理均匀的高密度等离子体片的方法