[发明专利]刻划头及刻划装置在审
| 申请号： | 201980057020.3 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112638608A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 中垣智贵 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B28D5/00 | 分类号： | B28D5/00;C03B33/027;H01L21/301 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 使得在刻划加工时不对杆施加轴交叉方向的力。本发明的刻划头(1)具备：保持器保持件(6)，其保持刻划工具(4)；气缸(3)，其使保持器保持件(6)相对于被加工物接近远离；以及支承体(7)，其支承保持器保持件(6)及气缸(3)，气缸(3)具有缸主体(3b)和轴体，该轴体从缸主体(3b)进退自如，轴体具有被相对于缸主体(3b)进行空气密封的结构，通过轴体从缸主体(3b)前进，而使得保持器保持件(6)相对于被加工物靠近，通过轴体向缸主体(3b)后退，而使得保持器保持件(6)远离被加工物，轴体的顶端与保持器保持件(6)形成为非连结，且构成为仅有沿着轴体的长度方向的力能够向保持器保持件(6)传递。 | ||
| 搜索关键词： | 刻划 装置 | ||
【主权项】：
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