[发明专利]量测设备在审
| 申请号： | 201980057917.6 | 申请日： | 2019-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN112639622A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | M·J·M·范达姆;A·J·登鲍埃夫;N·潘迪 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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