[发明专利]在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统在审
| 申请号： | 201980062717.X | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112771999A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | R·J·拉法克;I·V·福门科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于生成EUV辐射的系统和方法，其中在多级工艺中使用激光来照射靶材料而不改变靶材料，然后照射靶材料以改变靶材料，其中照射台用于在一个或多个照射阶段确定发射定时。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光源 用于 靶量测 改变 激光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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