[发明专利]氧化镁溅射靶有效
| 申请号： | 201980066087.3 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112805403B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 梶田博树;涩谷义孝;成田里安 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/053 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种溅射靶，所述溅射靶包含氧化镁烧结体，其特征在于，所述氧化镁烧结体中的在一个晶粒内存在的针孔的数量为20个以上的晶粒的比例为50％以下。本发明的课题在于提供一种包含氧化镁烧结体并且在溅射时粉粒的产生少的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化镁 溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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