[发明专利]用于替换坩埚的蒸发沉积系统在审
申请号: | 201980068082.4 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN112867808A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 金英年 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文披露了一种用于替换坩埚的蒸发沉积系统,所述蒸发沉积系统包括:真空腔室,所述真空腔室被配置为容纳基板;蒸发源,所述蒸发源被配置为供应气相沉积材料至基板;多个移动腔室,每个移动腔室被配置为沿着轨道移动并且容纳蒸发源;和连接腔室,所述连接腔室被配置为连接移动腔室和真空腔室,其中每个移动腔室的前表面具有第一开口和第一开关阀,气相沉积材料通过所述第一开口移动至连接腔室中,并且第一开关阀打开和关闭第一开口。 | ||
搜索关键词: | 用于 替换 坩埚 蒸发 沉积 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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