[发明专利]通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法在审
| 申请号： | 201980068272.6 | 申请日： | 2019-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN112889004A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | W·E·康利;J·J·索恩斯;段福·史蒂芬·苏;G·A·雷希特斯坦纳 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;西默有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面，一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计，光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案。该方法还包括基于增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案来配置光刻系统的部件。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 优化 创建 理想 光谱 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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