[发明专利]电光调制器及其用于三维成像的使用和制造方法在审
| 申请号： | 201980068935.4 | 申请日： | 2019-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN112867962A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | C·A·埃贝斯;P·S·班克斯;C·S·图维伊 | 申请（专利权）人： | 恩耐公司 |
| 主分类号： | G02B30/00 | 分类号： | G02B30/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于调制返回光以从场景中获取3D数据的设备、系统和方法。一种3D成像系统包含Fabry‑Perot腔，该Fabry‑Perot腔具有用于接收入射光的第一部分反射表面和光从其出射的第二部分反射表面。电光材料位于第一和第二部分反射面之间的Fabry‑Perot腔内。透明的纵向电极或横向电极在电光材料内产生电场。电压驱动器被配置为作为时间的函数调制电光材料内的电场，使得穿过电光材料的入射光根据调制波形被调制。光传感器接收从Fabry‑Perot腔的第二部分反射表面出射的调制光，并将该光转换为电信号。可以从电信号获得关于感兴趣场景的三维(3D)信息。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 调制器 及其 用于 三维 成像 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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