[发明专利]用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法在审
| 申请号： | 201980069608.0 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN113039868A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | D·拉贝斯基;A·D·拉弗格;马悦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于生成极紫外辐射的源和方法，其中通过如下来阻止熔融目标材料的喷溅：通过耗费可进入熔融目标材料沉积物，并通过引入与氢自由基反应的活性气体而在其中产生氢气泡的氢自由基的数目。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光源 减少 来自 材料 污染 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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