[发明专利]薄膜晶体管阵列及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201980069777.4 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN112912793A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 石崎守 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368;G02F1/167;G09F9/30;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/06;H01L29/786
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在形成于绝缘基板上的薄膜晶体管阵列中,具有具备薄膜晶体管、像素电极、电容器电极在内的多个像素,所述多个像素在多根列布线与多根行布线交叉的位置呈矩阵状配置,多根列布线以沿列方向延伸的方式配置,多根行布线以沿与列布线正交的行方向延伸的方式配置,像素电极由下层的电极即下像素电极与上层的电极即上像素电极这双层导电层构成,在下像素电极与上像素电极之间夹着中间绝缘膜,上像素电极经由中间绝缘膜的开口部与下像素电极连接,通过电容器电极与下像素电极的重叠而构成静电电容,列布线配置于在层叠方向上不与电容器电极以及下像素电极重叠但与上像素电极重叠的位置。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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