[发明专利]确定图案化工艺的感兴趣参数的值的方法、器件制造方法在审
| 申请号： | 201980071940.0 | 申请日： | 2019-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112997118A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | P·沃纳尔;H·D·波斯;H·J·H·斯米尔德;M·哈吉阿玛迪;L·J·马赫特;K·H·W·范登伯斯;S·索科洛夫;L·T·库内曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及确定图案化工艺的感兴趣参数的值。在计量过程中从目标获取多个校准数据单元。至少两个校准数据单元中的每个校准数据单元表示在计量过程中使用不同相应偏振设置而获取的检测辐射，每个偏振设置限定计量过程的入射辐射的偏振属性和计量过程的检测辐射的偏振属性。使用校准数据单元获取关于计量过程的校准信息。获取表示从另外的目标散射的检测辐射的测量数据单元，该另外的目标包括使用图案化工艺在衬底上或在另外的衬底上形成的结构。使用测量数据单元和所获取的校准信息确定感兴趣参数的值。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 图案 化工 感兴趣 参数 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980071940.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
