[发明专利]用于在带电粒子束设备中对晶片进行热调节的系统和方法在审
| 申请号： | 201980072394.2 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112970089A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | M·范赫门;J·戈斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/28 | 分类号： | H01J37/28;H01J37/22 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郭星 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种改进的粒子束检查设备，并且更具体地公开了一种包括用于预调节晶片的温度的热调节站的粒子束检查设备。带电粒子束设备可以扫描晶片以测量晶片上的结构的一个或多个特性并且分析一个或多个特性。带电粒子束设备还可以基于对结构的一个或多个特性的分析来确定晶片的温度特性，并且基于温度特性来调节热调节站。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 带电 粒子束 设备 晶片 进行 调节 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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