[发明专利]根据来自处理站的单独贡献来表征后处理数据的方法在审
| 申请号： | 201980072587.8 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN112955821A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | W·T·特尔;E·M·维亚基纳;T·范荷马特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于根据来自处理站的单独贡献来表征后处理数据的方法，该后处理数据涉及用于使用针对多个处理步骤中的每一个处理步骤的相应处理设备在多个衬底上制造集成电路的制造工艺，所述处理设备中的至少一些处理设备各自包括多个所述处理站，并且其中，用于处理每个衬底的处理站的组合限定了用于所述衬底的处理线程；该方法包括：以处理线程的循环顺序获得与多个衬底的处理相关联的后处理数据；并且通过比较对应于具有共享处理子线程的衬底的后处理数据的子集来确定特定处理站的单独贡献，其中，处理子线程描述除特定处理站所对应的处理步骤之外的每个处理线程的处理步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 根据 来自 处理 单独 贡献 表征 数据 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980072587.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
