[发明专利]确定对过程的校正在审
| 申请号： | 201980073186.4 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN112969967A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | S·罗伊;E·M·休瑟博斯;R·沃克曼;阮俊儒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G05B13/02;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于配置半导体制造过程的方法，该方法包括：基于与半导体制造过程中的过程步骤的第一操作相关联的测量以及第一采样方案来获得第一参数的第一值；使用递归神经网络基于第一值来确定第一参数的预测值；以及将第一参数的预测值用于配置半导体制造过程中的过程步骤的后续操作。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 过程 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
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